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20261-12
半导体光刻工艺痕量 AMC 监测难题有解 杜克泰克 3100S 精准响应

在半导体深紫外光刻工艺中，痕量级的NH₃、HCL、HF等空气分子污染物（AMC）如同隐形“绊脚石”，即便浓度极低也可能与化学放大光刻胶发生反应，直接影响半导体器...

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