关闭

当前位置：首页  >  技术文章

202512-11
猎户座 3100S AMC 空气分子污染物监测系统：半导体行业洁净生产的科技利器

在半导体深紫外光刻工艺中，NH₃、HCL、HF等痕量级AMC空气分子污染物堪称产品质量的“隐形杀手”，其与化学放大光刻胶的反应会直接影响半导体器件性能，而传统监...

查看详情 >>
  • AMC监测的主要目标污染物有哪些？

    2025-1-6

  • CF4气体分析仪的精度如何？

    2024-12-29

  • 哪些因素影响氨逃逸分析仪的准确性？

    2024-12-18

  • 如何提升便携式氨逃逸分析仪的灵敏度

    2024-12-11

  • CF4气体分析仪的技术特点

    2024-11-28

  • 激光氨气分析仪的影响因素有几点

    2024-11-14

  • 如何进行傅立叶红外光谱分析？

    2024-11-12

  • 油气井出砂监测仪的常见故障怎么解决

    2024-10-22

共 220 条记录，当前 9 / 28 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
电话 询价

产品目录